真空鍍膜機(jī)的厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒(méi)有任何障礙。 

但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也是說(shuō)要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整。真空鍍膜機(jī)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。真空鍍膜機(jī)的晶格有序度的均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問(wèn)題，具體見(jiàn)下。

真空鍍膜機(jī)的操作程序

① 檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開(kāi)關(guān)是否在"關(guān)"位置。

② 打開(kāi)總電源開(kāi)關(guān)，設(shè)備送電。

③ 低壓閥拉出。開(kāi)充氣閥，聽(tīng)不到氣流聲后，啟動(dòng)升鐘罩閥，鐘罩升起。

④ 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤(pán)上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無(wú)任何雜質(zhì)污物。

⑤ 落下鐘罩。⑥ 啟動(dòng)抽真空機(jī)械泵。

⑦ 開(kāi)復(fù)合真空計(jì)電源a.左旋鈕“1”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。b.低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至110mA時(shí)，左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。

⑧ 當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時(shí)針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，低壓閥推入。這時(shí)左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。

⑨ 真空鍍膜機(jī)開(kāi)通冷卻水，啟動(dòng)擴(kuò)散泵，加熱40min。

⑩ 低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動(dòng)作程序：左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，開(kāi)高壓閥（閥桿順時(shí)針旋轉(zhuǎn)）。

? 等低真空表“2”內(nèi)指針右移動(dòng)至0.1Pa時(shí)，開(kāi)規(guī)管燈絲開(kāi)關(guān)。a. 發(fā)射、零點(diǎn)測(cè)量鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向發(fā)射位置。b. 左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。